工具涂層技術(shù)發(fā)展趨勢
2019-07-22
真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長,國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行(工藝溫度高于 1000oC),涂層種類單一,局限性很大,因此,其發(fā)展初期未免差強(qiáng)人意。
到了上世紀(jì)七十年代末,開始出現(xiàn) PVD(物理氣相沉積) 技術(shù),為真空涂層開創(chuàng)了一個(gè)充滿燦爛前景的新天地,之后在短短的二、三十年間PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展,究其原因,是因?yàn)槠湓谡婵彰芊獾那惑w內(nèi)成膜,幾乎無任何環(huán)境污染問題,有利于環(huán)保;因?yàn)槠淠艿玫焦饬?、華貴的表面,在顏色上,成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色,可謂五彩繽紛,能夠滿足裝飾性的各種需要;又由于 PVD 技術(shù),可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層,應(yīng)用在工裝、模具上面,可以使壽命成倍提高,較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果;此外, PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn),幾乎可以在任何基材上成膜,因此,應(yīng)用范圍十分廣闊,其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù),各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮,如今在這一領(lǐng)域中,已呈現(xiàn)出百花齊放,百家爭鳴的喜人景象。與此同時(shí),我們還應(yīng)該清醒地看到,真空涂層技術(shù)的發(fā)展又是嚴(yán)重不平衡的。由于刀具、模具的工作環(huán)境極其惡劣,對薄膜附著力的要求,遠(yuǎn)高于裝飾涂層。因而,盡管裝飾涂層的廠家已遍布各地,但能夠生產(chǎn)工模涂層的廠家并不多。再加上刀具、模具涂層售后服務(wù)的欠缺,到目前為止,國內(nèi)大多數(shù)涂層設(shè)備廠家都不能提供完整的刀具涂層工藝技術(shù)(包括前處理工藝、涂層工藝、涂后處理工藝、檢測技術(shù)、涂層刀具和模具的應(yīng)用技術(shù)等),而且,它還要求工藝技術(shù)人員,除了精通涂層的專業(yè)知識以外,還應(yīng)具有扎實(shí)的金屬材料與熱處理知識、工模涂層前表面預(yù)處理知識、刀具、模具涂層的合理選擇以及上機(jī)使用的技術(shù)要求等,如果任一環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題,都會(huì)給使用者產(chǎn)生使用效果不理想這樣的結(jié)論。所有這些,都嚴(yán)重制約了該技術(shù)在刀具、模具上的應(yīng)用。另一方面,由于該技術(shù)是一門介于材料學(xué)、物理學(xué)、電子、化學(xué)等學(xué)科的新興邊緣學(xué)科,而國內(nèi)將其應(yīng)用于刀具、模具生產(chǎn)領(lǐng)域內(nèi)的為數(shù)不多的幾個(gè)骨干廠家,大多走的也是一條從國外引進(jìn)先進(jìn)設(shè)備和工藝技術(shù)的路子,尚需一個(gè)消化、吸收的過程,因此,國內(nèi)目前在該領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)力量與其發(fā)展很不相稱,急需奮起直追。
工具涂層發(fā)展?fàn)顩r
PVD是英文“Physical Vapor Deposition”的縮寫形式,意思是物理氣相沉積。我們現(xiàn)在一般地把真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子鍍等都稱為物理氣相沉積。較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機(jī)電源供電即可工作,其引弧的過程也與電焊類似,具體地說,在一定工藝氣壓下,引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸,斷開,使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑,在蒸發(fā)源表面上連續(xù)形成熔池,使金屬蒸發(fā)后,沉積在基體上而得到薄膜層的,與磁控濺射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金屬離子離化率高,薄膜與基體之間結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。此外,多弧鍍涂層顏色較為穩(wěn)定,尤其是在做 TiN 涂層時(shí),每一批次均容易得到相同穩(wěn)定的金黃色,令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是,在用傳統(tǒng)的 DC 電源做低溫涂層條件下,當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm 時(shí),沉積率與反射率接近,成膜變得非常困難。而且,薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是,由于金屬是熔后蒸發(fā),因此沉積顆粒較大,致密度低,耐磨性比磁控濺射法成膜差??梢?,多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣,為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性,實(shí)現(xiàn)互補(bǔ),將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底,然后利用磁控濺射法增厚涂層,最后再利用多弧鍍達(dá)到最終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。大約在八十年代中后期,出現(xiàn)了熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機(jī),應(yīng)用效果很好,使TiN 涂層刀具很快得到普及性應(yīng)用。其中熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍,利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料,利用鉭燈絲給工件加熱、除氣,利用電子槍增強(qiáng)離化率,不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂層,而且其結(jié)合力、耐磨性均有不俗表現(xiàn),甚至用打磨的方法都難以除去。但是這些設(shè)備都只適合于 TiN涂層,或純金屬薄膜。對于多元涂層或復(fù)合涂層,則力不從心,難以適應(yīng)高硬度材料高速切削以及模具應(yīng)用多樣性的要求。目前,一些發(fā)達(dá)國家(如德國 CemeCon、英國 ART-TEER )在傳統(tǒng)的磁控濺射原理基礎(chǔ)上,用非平衡磁場代替原先的平衡磁場、50KHz 的中頻電源代替原來的直流電源、脈沖電源取代以往的直流偏壓,采用輔助陽極技術(shù)等,使磁控濺射技術(shù)逐步成熟,已大批量應(yīng)用在工模涂層上,現(xiàn)在已穩(wěn)定生產(chǎn)的涂層主要有 TiAlN、AlTiN、TiB2、DLC、CrN等等,我國廣東、江蘇、貴州、株洲等地也已陸續(xù)引進(jìn)此種設(shè)備,大有星火燎原之勢。
工具涂層設(shè)備基本構(gòu)件
現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測量技術(shù)、非平衡磁控濺射技術(shù)、輔助陽極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現(xiàn)代涂層設(shè)備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或?yàn)R射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。
1 真空室
涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式,由于工模涂層對加熱及機(jī)械傳動(dòng)部分有較高要求,而且工模形狀、尺寸千差萬別,連續(xù)涂層生產(chǎn)線通常難以滿足要求,須采用單室涂層機(jī)。
2 真空獲得部分
在真空技術(shù)中,真空獲得部分是重要組成部分。由于工模件涂層高附著力的要求,其涂層工藝要求良好的本底真空,合理選擇真空獲得設(shè)備,實(shí)現(xiàn)高真空度至關(guān)重要。就目前來說,還沒有一種泵能從大氣壓一直工作到接近超高真空。因此,真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達(dá)到的,必須將幾種泵聯(lián)合使用,如機(jī)械泵、分子泵系統(tǒng)等。
3 真空測量部分
真空系統(tǒng)的真空測量部分,就是要對真空室內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行測量。像真空泵一樣,沒有一種真空計(jì)能測量整個(gè)真空范圍,人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計(jì)。
4 電源供給部分
靶電源主要有直流電源(如 MDX)、中頻電源(如美國 AE公司的 PE、PEII、PINACAL);工件本身通常需加直流電源(如 MDX)、脈沖電源(如美國AE公司生產(chǎn)的 PINACAL+)、或射頻電源(RF)。
5 工藝氣體輸入系統(tǒng)
工藝氣體,如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮?dú)?N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應(yīng),經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計(jì)、電磁閥、壓電閥,然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是,管路簡捷、明快,維修或更換氣瓶容易。各涂層機(jī)之間互不影響。也有多臺涂層機(jī)共用一組氣瓶的情況,這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機(jī)會(huì)看到。它的好處是,減少氣瓶占用量,統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點(diǎn)是,由于接頭增多,使漏氣機(jī)會(huì)增加。而且,各涂層機(jī)之間會(huì)互相干擾,一臺涂層機(jī)的管路漏氣,有可能會(huì)影響到其他涂層機(jī)的產(chǎn)品質(zhì)量。此外,更換氣瓶時(shí),必須保證所有主機(jī)都處于非用氣狀態(tài)。
6 機(jī)械傳動(dòng)部分
刀具涂層要求周邊必須厚度均勻一致,因此,在涂層過程中須有三個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量才能滿足要求。即在要求大工件臺轉(zhuǎn)動(dòng)(I)的同時(shí),小的工件承載臺也轉(zhuǎn)動(dòng)( II),并且工件本身還能同時(shí)自轉(zhuǎn)(III)。在機(jī)械設(shè)計(jì)上,一般是在大工件轉(zhuǎn)盤底部中央為一大的主動(dòng)齒輪,周圍是一些小的星行輪與之嚙合,再用撥叉撥動(dòng)工件自轉(zhuǎn)。當(dāng)然,在做模具涂層時(shí),一般有兩個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量就足夠了,但是齒輪可承載量必須大大增強(qiáng)。
7 加熱及測溫部分
做工模涂層的時(shí)候,如何保證被鍍工件均勻加熱比裝飾涂層加熱要重要得多。工模涂層設(shè)備一般均有前后兩個(gè)加熱器,用熱電偶測控溫度。但是,由于熱電偶裝夾的為置不同,因而,溫度讀數(shù)不可能是工件的真實(shí)溫度。要想測得工件的真實(shí)溫度,有很多方法,這里介紹一種簡便易行的表面溫度法 (Surface Thermomeer)。該溫度計(jì)的工作原理是,當(dāng)溫度計(jì)受熱,底部的彈簧將受熱膨脹,使指針推動(dòng)定位指針旋轉(zhuǎn),直到最高溫度。降溫的時(shí)候,彈簧收縮,指針反向旋轉(zhuǎn),但定位指針維持在最高溫度位置不動(dòng),開門后,讀取定位指針指示的溫度,即為真空室內(nèi)加熱時(shí),表面溫度計(jì)放置位置所曾達(dá)到的最高溫度值。
8 離子蒸發(fā)及濺射源
多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形,俗稱圓餅靶,近幾年也出現(xiàn)了長方形的多弧靶,但未見有明顯效果。圓餅靶裝在銅靶座(陰極座)上面,兩者為螺紋連接。靶座中裝有磁鐵,通過前后移動(dòng)磁鐵,改變磁場強(qiáng)度,可調(diào)整弧斑移動(dòng)速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度,要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性,還可以在靶與靶座之間加錫(Sn)墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形靶材,
9 水冷系統(tǒng)
因?yàn)楣つM繉訒r(shí),為了提高金屬原子的離化率,各個(gè)陰極靶座都盡可能地采用大的功率輸出,需要充分冷卻;而且,工模涂層中的許多種涂層,加熱溫度為 400~500oC,因此,對真空室壁、對各個(gè)密封面的冷卻也很重要,所以冷卻水最好采用18~20oC 左右的冷水機(jī)供水。為了防止開門后,低溫的真空室壁、陰極靶與熱的空氣接觸析出水珠,在開門前 10 分鐘左右,水冷系統(tǒng)應(yīng)有能力切換到供熱水狀態(tài),熱水溫度約為 40~45oC。
工具涂層技術(shù)發(fā)展趨勢
1、涂層成分將趨于多元化、復(fù)合化
第一代PVD涂層主要以TiN為主,在此基礎(chǔ)上,又發(fā)展了TiC、 TiCN、ZrN、CrN、WC等多種單一金屬涂層。伴隨PVD沉積技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展,鋁元素技加人涂層中,含鋁的多元金屬合金涂層如TiAIN、TiAICN等相繼問世,其耐磨性及紅硬性比單一金屬涂層提高了很多,可以用于較高的切削速度,如滾切,可達(dá)到150m/min。后來,人們考慮將多種不同種類涂層分層沉積到刀具上以發(fā)揮不同涂層的優(yōu)勢又成為一種趨勢,如TiN+TiCN+TiN,TiN+TiALN,TiAIN+WC/C等。近年來, PVD涂層技術(shù)又向前邁進(jìn)了一步,國外多家涂層公司已開發(fā)出了脈沖涂層技術(shù)并開始應(yīng)用,如瑞士Balzers公司的P3E(Pulse Enhanced Electron Emission脈沖增強(qiáng)電子發(fā)射)技術(shù),德國Cemecon公司的H.I.P_(High Ion Pulse,高能粒子脈沖)技術(shù)。這兩種新技術(shù)都是利用脈沖電子激活電弧蒸發(fā)靶材,由于該工藝可在氧氣氛圍中運(yùn)行,所以, 理論上講,用這種工藝幾乎可以沉積任何金屬氧化物(如A12O3,ZrO2,Cr2O3,Ta2O5等)及其化合物涂層。目前,Al2O3涂層已進(jìn)人實(shí)用試驗(yàn)階段,相信在不久的將來就會(huì)廣泛應(yīng)用。
2.涂層的應(yīng)用開發(fā)更具針對性
為滿足不同的應(yīng)用要求,涂層的開發(fā)設(shè)計(jì)越來越具有針對性。針對不同的應(yīng)用領(lǐng)域如鉆削、銑削、干式滾切、沖壓、拉深等的特點(diǎn)和特性要求,開發(fā)在這方面具有相對優(yōu)勢的涂層。經(jīng)過不斷努力和嘗試,在某些領(lǐng)域已獲得了成功,如高鋁含量約TiX(Al:Ti一2:1)涂層應(yīng)用在銑削上,不含Ti的涂層AICrN應(yīng)用高速干式滾切上,復(fù)合涂層CrN+TISIN應(yīng)用在鉆削上,復(fù)合涂層TIN+TCX應(yīng)用在深拉模具上,壽命都明顯優(yōu)于其他涂層。另外如針對抗腐蝕(Crx涂層)、“自潤滑(WC/C涂層)、軟材料加工(MoS2涂層)、高硬材料加工(CBN、Dimond涂層)的各種有針對性的涂層等都早已獲得了廣泛應(yīng)用。雖然這些涂層在各自領(lǐng)域應(yīng)用非常成功,但隨著PVD涂層技術(shù)的不斷發(fā)展,新的更具針對性的涂層也會(huì)繼續(xù)不斷地開發(fā)以替代這些現(xiàn)有涂層。
3.涂層的沉積顆粒趨于納米化
隨著納米技術(shù)的發(fā)展和涂層技術(shù)的進(jìn)步,納米刀具涂層也引起了廣大研究者和PVD涂層服務(wù)公司的關(guān)注。涂層沉積顆粒的納米化,可以增強(qiáng)涂層與基體以及各層間的結(jié)合強(qiáng)度,同時(shí)可以降低涂層表面粗糙度。目前,大多數(shù)涂層的沉積顆粒仍然較大,雖然有稱為納米級的涂層,但在涂層的最后表面上仍然可以發(fā)現(xiàn)較大的顆粒,涂層表面仍然較粗糙。減小涂層沉積顆粒的大小并保持工藝穩(wěn)定以避免較大異常顆粒的出現(xiàn),將成為涂層發(fā)展的又一個(gè)方向,尤其是在鏡面上的應(yīng)用、雖然有限公司已經(jīng)開發(fā)出鏡面涂層,但質(zhì)量和穩(wěn)定性較差,另外,工藝也較 復(fù)雜。在未來的涂層研發(fā)中,涂層顆粒的納米化以及涂層層間厚度的納米化將是 主要發(fā)展方向這對于提高涂層的綜合性能,降低層間應(yīng)力具有重要的意義,同時(shí)會(huì)提高鏡面的光潔度進(jìn)一步擴(kuò)展涂層在精密成型行業(yè)的廣泛應(yīng)用。
4、涂層的工藝溫度越來越低
從一般CVD涂層1000℃左右的沉積溫度到PVD和PECVD涂層500℃左右的沉積溫度,涂層的沉積溫度已降低了,因此,涂層的應(yīng)用范圍也擴(kuò)大了,但是,500℃左右的沉積溫度仍然會(huì)對涂層工件產(chǎn)生不良影響,如變形、基體硬度降低等。因此,需要對涂層工件的前期熱處理提出特殊要求,如工件的回火溫度不得低于涂層溫度。更低溫度的涂層,如涂層溫度在200℃以下,將消除這些限制, 使得可用于涂層的材料種類更多,前期熱處理的選擇更加靈活,不同的表面改性技術(shù)的綜合應(yīng)用將更加可行。同時(shí),低溫涂層的應(yīng)用,也會(huì)降低涂層設(shè)備的能耗,在節(jié)約能源方面具有一定的環(huán)保作用。另外,涂層溫度的降低,使得加熱和冷卻時(shí)間減少也會(huì)縮短涂層的交貨周期,效率更高,所以,低溫涂層將會(huì)極大地促進(jìn)涂層的應(yīng)用、普及,必將成為PVD涂層發(fā)展的,一個(gè)重要方向。